Roots, The Hidden Half.

<< 根と茎のジベレリン応答性の違い　レタスの例>>

レタスの芽生え全体をジベレリン溶液に30分間隔で浸す処理を，2日〜4日間繰り返して，根の伸長と下胚軸の伸長を計測したところ，1ナノモルのジベレリン溶液では根の伸長だけが促進され，下胚軸の伸長は促進されなかった。

ジベレリン濃度を1マイクロモルに上げると，根の伸長も下胚軸の伸長も促進された。

グラフは１２〜１４本のレタスの芽生えをリゾメータと呼ばれる自動計測装置にセットし根の伸長を連続計測しながら芽生え全体を繰り返しジベレリン溶液に浸漬処理した。１ナノモルでは根の伸長だけが促進されている。

Tanimoto, In Plant Roots., Eds. Waisel et al. Marcel Dekker Inc.(2000), pp.405-416

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